学进去-教育应平等而普惠
试题
类型:有机推断题
难度系数:0.40
所属科目:高中化学
光刻胶主要应用于显示面板、集成电路等细微图形加工,其合成路线如图(部分试剂和产物略)。

已知:①+R2CH2CHO(为羟基或氢原子)
+ R2OH+ HCl
(1)A的结构简式为___________;C中所含官能团的名称为___________
(2)羧酸X的名称为___________
(3)E物质不能发生的反应是___________(填序号)
a.加成反应       b.消去反应       c.取代反应       d.加聚反应       e.缩聚反应
(4)D和G反应生成光刻胶的化学反应方程式为___________
(5)写出满足下列条件的B的一种同分异构体的结构简式:___________
①分子中含有苯环;②能发生银镜反应;③核磁共振氢谱峰面积之比为2:2:2:1:1
(6)结合已有知识和相关信息,完善为原料制备的合成路线的最后两步(无机试剂任选)。__________
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y = sin x, x∈R, y∈[–1,1],周期为2π,函数图像以 x = (π/2) + kπ 为对称轴
y = arcsin x, x∈[–1,1], y∈[–π/2,π/2]
sin x = 0 ←→ arcsin x = 0
sin x = 1/2 ←→ arcsin x = π/6
sin x = √2/2 ←→ arcsin x = π/4
sin x = 1 ←→ arcsin x = π/2

用户名称
2019-09-19

y = sin x, x∈R, y∈[–1,1],周期为2π,函数图像以 x = (π/2) + kπ 为对称轴
y = arcsin x, x∈[–1,1], y∈[–π/2,π/2]
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sin x = 1/2 ←→ arcsin x = π/6
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