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（2）芯片制造过程中的蚀刻要用到氢氟酸（HF），它也能蚀刻玻璃，其中有一个化学反应的化学方程式是：CaSiO3+6HF═X+SiF4↑+3H2O，则X的化学式为
同类型试题
y = sin x， x∈R， y∈[–1，1]，周期为2π，函数图像以 x = (π/2) + kπ 为对称轴
y = arcsin x， x∈[–1，1]， y∈[–π/2，π/2]
sin x = 0 ←→ arcsin x = 0
sin x = 1/2 ←→ arcsin x = π/6
sin x = √2/2 ←→ arcsin x = π/4
sin x = 1 ←→ arcsin x = π/2
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